AMAT 0010-22985驱动器组件

AMAT 0010-22985驱动器组件 

1.产 品 资 料 介 绍：

中文资料：

AMAT 0010-22985 是应用材料公司（Applied Materials）生产的 300 毫米 MCA（Multi-Chamber Assembly）加热器组件，主要用于半导体制造过程中的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和物理气相沉积（PVD）等工艺。

主要特点：

• 尺寸： 适用于 300 毫米（12 英寸）晶圆。
• 功能： 用于固定和加热晶圆，确保在处理过程中稳定性和均匀性。
• 兼容性： 与 AMAT 的多种设备兼容，适用于不同的沉积和刻蚀工艺。

应用领域：

该加热器组件广泛应用于半导体制造领域，特别是在以下工艺中：

• PVD（物理气相沉积）： 用于薄膜沉积过程，如金属层的沉积。
• PECVD（等离子体增强化学气相沉积）： 用于沉积绝缘层、介电层等。
• 刻蚀工艺： 在刻蚀过程中提供稳定的晶圆支撑和加热。

维护与更换：

由于该组件在高温和高能环境下工作，长期使用可能导致性能下降。 定期检查和更换加热器组件对于保持设备性能和生产效率至关重要。

英文资料：

AMAT 0010-22985 is a 300mm MCA (Multi Chamber Assembly) heater component produced by Applied Materials, mainly used in processes such as plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and physical vapor deposition (PVD) in semiconductor manufacturing.

Main features:

Size: Suitable for 300mm (12 inch) wafers.

Function: Used to fix and heat wafers, ensuring stability and uniformity during processing.

Compatibility: Compatible with various AMAT devices and suitable for different deposition and etching processes.

Application areas:

This heater component is widely used in the semiconductor manufacturing field, especially in the following processes:

PVD (Physical Vapor Deposition): Used in thin film deposition processes, such as the deposition of metal layers.

PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition): used for depositing insulating layers, dielectric layers, etc.

Etching process: Provide stable wafer support and heating during the etching process.

Maintenance and replacement:

Due to the operation of this component in high temperature and high-energy environments, long-term use may lead to performance degradation. Regular inspection and replacement of heater components are crucial for maintaining equipment performance and production efficiency.

2.产      品      展      示      

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