LAM 660-072826-200射频发电机

LAM 660-072826-200射频发电机

1.产 品 资 料 介 绍：

中文资料：

LAM 660-072826-200射频发电机主要应用于半导体制造和高精度工艺中，提供稳定的射频能量，支持等离子体生成和控制。其主要应用领域包括：

1. 半导体制造：

• 化学气相沉积（CVD）：为反应气体提供能量，生成薄膜，应用于集成电路制造。
• 等离子体刻蚀：生成等离子体去除材料或形成微细图案。

2. 等离子体处理：

• 等离子体清洗：去除污染物，确保材料表面的高质量。
• 表面改性：增强材料的附着力、润湿性等特性。

3. 微电子设备制造：

• 薄膜沉积：精确控制薄膜厚度和均匀性，应用于电子器件制造。

4. 光伏行业：

• 太阳能电池制造：用于薄膜沉积和刻蚀，确保高效能量转换。

LAM 660-072826-200通过提供高效、稳定的射频输出，支持多个高精度工业和科学领域。

英文资料：

The LAM 660-072826-200 RF generator is mainly used in semiconductor manufacturing and high-precision processes, providing stable RF energy and supporting plasma generation and control. Its main application areas include:

1. Semiconductor manufacturing:

Chemical Vapor Deposition (CVD): Provides energy to reaction gases, generates thin films, and is applied in integrated circuit manufacturing.

Plasma etching: Generating plasma to remove materials or form fine patterns.

2. Plasma treatment:

Plasma cleaning: Removing pollutants to ensure high-quality material surfaces.

Surface modification: enhances the adhesion, wettability, and other properties of materials.

3. Manufacturing of microelectronic devices:

Thin film deposition: precise control of thin film thickness and uniformity, applied in electronic device manufacturing.

4. Photovoltaic industry:

Solar cell manufacturing: used for thin film deposition and etching to ensure efficient energy conversion.

LAM 660-072826-200 supports multiple high-precision industrial and scientific fields by providing efficient and stable RF output.

2.产      品      展      示      

3.其他产品

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4.其他英文产品

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